蒲永平1, 陈寿田2, LANGHAMMER H T3, MAKOVEC D4
收稿日期:2005-08-12
修回日期:2005-10-25
出版日期:2006-07-20
网络出版日期:2006-07-20
PU Yong-Ping1, CHEN Shou-Tian2, LANGHAMMER H. T.3, MAKOVEC D.4
Received:2005-08-12
Revised:2005-10-25
Published:2006-07-20
Online:2006-07-20
摘要: 不同La施主掺杂浓度的BaTiO3陶瓷在H2/Ar的还原气氛下烧结后, 再在氧分压P O2=260Pa的气氛(Ar和O2的混合气体)下进行氧化, 通过氧流量计检测还原样品在再氧化过程的吸氧行为; 用TEM分析样品氧化后显微结构的变化, 测定了在不同最高氧化温度下氧化样品的PTCR效应以及复阻抗图谱. 结果表明: 氧流量计在升温阶段检测到三个不同行为的吸氧峰,峰I(起始温度~250℃)为氧空位的填充过程; 峰II(起始温度~800℃)和峰III(起始温度~1250℃)为还原相的氧化过程, 具体来说, 峰II是通过晶界扩散提供氧使靠近晶界附近的区域被氧化; 而峰III是由晶格扩散过程控制, 氧化过程从晶界逐渐向晶粒内部区域扩展, 并伴随着富Ti的Ba6Ti17O40相的沉淀. 在还原相向氧化相的转变过程中, 于晶界处形成了两个具有晶界势垒的电结构单元而使陶瓷呈现强PTCR效应.
中图分类号:
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