1 Choopun S, Vispute R D, Yang W, et al. Appl. Phys. Lett., 2002, 80(9): 1529-1531. 2 Ohtomo A, Kawasaki M, Koida T, et al. Appl. Phys. Lett., 1998, 72(9): 2466-2468. 3 Chen N B, Wu H Z, Qiu D J, et al. J. Phys.: Condens. Matter, 2004, 16: 2973-2980. 4 Teng C W, Muth J F, Ozgur U, et al. Appl. Phys. Lett., 2000, 76(8): 979-981. 5 Takeuchi I, Yang W, Chang K S, et al. J. Appl. Phys., 2003, 94(11): 7336-7340. 6 Ohtomo A, Kawasaki M, Ohkubo I, et al. Appl. Phys. Lett., 1999, 75(7): 980-982. 7 Makino T, Chia C H, Nguen T Tuan, et al. Appl. Phys. Lett., 2000, 77(7): 975-977. 8 Sun H D, Makino T, Tuan N T, et al. Appl. Phys. Lett., 2000, 77(26): 4250-4252. 9 Sarver J F, Fred L Katnack, Hummel F A. J. Electrochem. Soc., 1959, 106: 960. 10 Ohtomo A, Shiroki T, Ohkubo I, et al. Appl. Phys. Lett., 1999, 75(26): 4088-4090. 11 Liang J, Wu H Z, Lao Y F, et al. Chin. Phys. Lett., 2004, 21(6): 1135-1138. 12 Qiu D J, Wu H Z, Chen N B, et al. Chin. Phys. Lett., 2002, 20(4): 582-584. |