溅射工艺对SiCN薄膜沉积及光性能的影响

无机材料学报

溅射工艺对SiCN薄膜沉积及光性能的影响

肖兴成; 宋力昕; 江伟辉; 彭晓峰; 胡行方

中国科学院上海硅酸盐研究所, 上海 200050

收稿日期:1999-08-20 修回日期:1999-09-22 出版日期:2000-08-20 网络出版日期:2000-08-20

Influence of Sputtering Process on the Deposition and Optical Properties of SiCN Films

XIAO Xing-Cheng; SONG Li-Xin; JIANG Wei-Hui; PENG Xiao-Feng; HU Xing-Fang

Shanghai Institute of Ceramics; Chinese Academy of Sciences; Shanghai 200050; China

Received:1999-08-20 Revised:1999-09-22 Published:2000-08-20 Online:2000-08-20

摘要/Abstract

摘要： 本文利用射频磁控溅射工艺制备了ＳｉＣＮ薄膜，研究了基本工艺参数如溅射功率、Ｎ分压对薄膜沉积和光学性能的影响．研究结果表明：溅射制备的薄膜中形成了复杂的网络结构，膜中三元素Ｓｉ、Ｃ和Ｎ两两之间形成了共价键．Ｎ分压的提高降低了薄膜的沉积速率．Ｎ流量的提高使光学带隙增大．溅射功率的提高使薄膜的沉积速率提高，但使得光学带隙减小．

关键词: SiCN薄膜, 磁控溅射, FTIR, 光学带隙

Abstract: iCN films were prepared by RF magnetron sputtering with SiC target. The influences of the basic
process parameters, such as the deposition power and partial pressure of nitrogen, on the deposition rate and optical properties were studied.
XPS and FTIR results revealed the formation of a complex network among Si, C and N. The deposition rate decreased with increasing partial
pressure of nitrogen. The increase of N flux resulted in wider optical gap. The higher the deposition power, the higher the deposition rate
and the narrower the optical band gap.

Key words: SiCN films, RF magnetron sputtering, FTIR, optical band gap

中图分类号:

O484

肖兴成,宋力昕,江伟辉,彭晓峰,胡行方. 溅射工艺对SiCN薄膜沉积及光性能的影响[J]. 无机材料学报.

XIAO Xing-Cheng,SONG Li-Xin,JIANG Wei-Hui,PENG Xiao-Feng,HU Xing-Fang. Influence of Sputtering Process on the Deposition and Optical Properties of SiCN Films[J]. Journal of Inorganic Materials.

[1]	王影, 张文龙, 邢彦锋, 曹苏群, 戴新义, 李晶泽. 非晶态磷酸锂包覆钛酸锂电极在0.01~3.00 V电压范围的性能研究[J]. 无机材料学报, 2021, 36(9): 999-1005.
[2]	赵长江,马超,刘俊成,刘治钢,陈燕. 溅射功率对磁控溅射法制备MgF₂薄膜组织和性能的影响[J]. 无机材料学报, 2020, 35(9): 1064-1070.
[3]	王美涵, 温佳星, 陈昀, 雷浩. 掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜[J]. 无机材料学报, 2018, 33(12): 1303-1308.
[4]	魏菁, 李汉超, 柯培玲, 汪爱英. 不同厚度四面体非晶碳薄膜的高通量制备及表征[J]. 无机材料学报, 2018, 33(11): 1173-1178.
[5]	程丹, 黄斌, 陈涛, 景凤娟, 谢东, 冷永祥, 黄楠. TiCuO薄膜的显微结构对Cu离子释放和内皮细胞行为的影响[J]. 无机材料学报, 2018, 33(10): 1089-1096.
[6]	王红燕, 张浩, 姜宏, 汪国庆, 熊春荣. 高可见光透过、高紫外截止镀膜玻璃的制备[J]. 无机材料学报, 2017, 32(7): 758-764.
[7]	王佛根, 陈蕴璐, 任胜强, 张家远, 武莉莉, 冯良桓. 磁控溅射法制备的CdS:Al薄膜的性质研究[J]. 无机材料学报, 2017, 32(4): 413-417.
[8]	李淼磊, 王恩青, 岳建岭, 黄小忠. TiAlN/VN纳米多层膜的微结构与力学和摩擦学性能[J]. 无机材料学报, 2017, 32(12): 1280-1284.
[9]	朱玉婵, 袁敏, 张欢, 王乐, 全姗姗, 柴波, 任占冬. 沿[111]方向择优生长Pt/Ti电极制备及析氯电催化活性[J]. 无机材料学报, 2016, 31(5): 510-516.
[10]	吴志立, 李玉阁, 吴彼, 雷明凯. 高功率调制脉冲磁控溅射沉积TiAlSiN纳米复合涂层结构调控与性能研究[J]. 无机材料学报, 2015, 30(12): 1254-1260.
[11]	张志伟, 邓元. 磁控溅射法可控制备有序碲纳米线阵列[J]. 无机材料学报, 2015, 30(1): 107-112.
[12]	秦毅, 赵婷, 王波, 杨建锋. PECVD沉积和原位退火时间对h-BN薄膜组成及光学带隙的影响[J]. 无机材料学报, 2014, 29(7): 729-734.
[13]	张辉, 马永军, 王艺程, 文丹丹, 叶飞, 白飞明. 离轴磁控溅射法生长1-3维PZT-NFO纳米复合薄膜[J]. 无机材料学报, 2014, 29(4): 371-376.
[14]	曹丽莉，王瑶，邓元，罗炳威，祝薇，史永明, 林桢. 铜对双靶共溅制备热电薄膜输运性能的影响[J]. 无机材料学报, 2014, 29(2): 215-219.
[15]	王伟君, 何俊, 张克智, 陶加华, 孙琳, 陈晔, 杨平雄, 褚君浩. 单靶磁控溅射制备铜铟硒和铜铟锌硒薄膜及其结构、光学性质研究[J]. 无机材料学报, 2014, 29(11): 1223-1227.