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第三代半导体互连材料与低温烧结纳米铜材的研究进展
柯鑫, 谢炳卿, 王忠, 张敬国, 王建伟, 李占荣, 贺会军, 汪礼敏
无机材料学报    2024, 39 (1): 17-31.   DOI:10.15541/jim20230345
摘要   (958 HTML333 PDF(pc) (9911KB)(3768)  

半导体材料是现代科技发展和产业革新的核心, 随着高频、高压、高温、高功率等工况的日趋严峻及“双碳”目标的需要, 以新型碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等为代表的第三代半导体材料逐步进入工业应用。半导体产业的贯通以及市场规模的快速扩大, 导致摩尔定律正逐渐达到极限, 先进封装互连将成为半导体行业关注的焦点。第三代半导体封装互连材料有高温焊料、瞬态液相键合材料、导电胶、低温烧结纳米Ag/Cu等几个发展方向, 其中纳米Cu因其优异的导电导热性、低温烧结特性和良好的可加工性成为一种封装互连的新型方案, 具有低成本、高可靠性和可扩展性, 近年来从材料研究向产业链终端应用贯通的趋势非常明显。本文首先介绍了半导体材料的发展概况并总结了第三代半导体封装互连材料类别; 然后结合近期研究成果进一步围绕纳米Cu低温烧结在封装互连等电子领域中的应用进行重点阐述, 主要包括纳米铜粉的粒度、形貌、表面处理和烧结工艺对纳米铜烧结体导电性能和剪切性能的影响; 最后总结了目前纳米铜在应用转化中面临的困境和亟待解决的难点, 并展望了未来的发展方向, 以期为低温烧结纳米铜领域的研究提供参考。



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图2 第三代半导体应用领域
正文中引用本图/表的段落
传统半导体材料无法满足发展中的高频、高压、高温、高功率等严峻工况及社会发展的需要, 同时在“双碳”目标背景之下, 促成了以SiC、GaN为代表的第三代半导体材料的快速崛起。发展至今, 第三代半导体材料已在LED半导体照明、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、IT产品、国防军工等领域实现应用(图2), 是电子电力、微波射频等功率器件的工作“核芯”。
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