[1] 马风领, 邹颂扬, 张沛霖, 等. 压电与声光 1990, 12(4): 33--36. [2] 曾汉民主编. 高技术新材料要览. 北京:中国科学技术出版社, 1993. 341. [3] Tang X G, Zhou Q F, Zhang J X. J. Appl. Phys., 1999, 86: 5194--5197. [4] Zhang Q Q, Chan H L W, Ploss B. IEEE Trans. Ultrason. Ferroelect. Frequenc. Contr., 2001?, 48: 154--160. [5] Ishikawa K, Yoshikawa K, Okada N. Phys.Rev., 1988, B37: 5852--5855. [6] Zhong W L, Jiang B, Zhang P L, et al. J. Phys. Conden. Matter., 1993, 5: 2619--2624. [7] Tavares E C S, Pizani P S, Eiras J A. Appl. Phys. Lett., 1998, 72?: 897--899. [8] Wu D, Li A D, Ge C Z, et al, Thin Solid Film, 1998, 322: 323--328. [9] Song Z T, Fu X R, Zeng J M, et al. Jpn. J. Appl. Phys., 1999, 38: 6415--6420. [10] Song Z T, Lin C L, Wang L W, et al. Materials Letters, 2001, 47: 219--224. [11] Fu X R, Li J H, Song Z T, et al, Materials Letters, 2000, 44: 70--74. [12] 郑立荣, 杨平维, 林成鲁, 等. 中国激光, 1998, A25: 473--476. [13] H.P.克鲁格, L.E.亚历山大, 盛世雄等译. X射线衍射技术(多晶体和非晶质材料). 冶金工业出版, 1986. 421. [14] 钟维烈. 铁电物理学. 北京: 科学出版社, 1998.160. |