金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核

无机材料学报

金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核

王志明; 夏义本; 杨莹; 方志军; 王林军; 居建华; 范轶敏; 张伟丽

上海大学材料科学与工程学院上海 201800

收稿日期:2001-07-09 修回日期:2001-09-05 出版日期:2002-07-20 网络出版日期:2002-07-20

Lower Gas Pressure Enhanced Diamond Nucleation on Alumina by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition

WANG Zhi-Ming; XIA Yi-Ben; YANG Ying; FANG Zhi-Jun; WANG Lin-Jun; JU Jian-Hua; FAN Yi-Min; ZHANG Wei-Li

School of Materials Science and Engineering; Shanghai University; Shanghai 201800; China

Received:2001-07-09 Revised:2001-09-05 Published:2002-07-20 Online:2002-07-20

摘要/Abstract

摘要： 在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统中,用低压成核方法,在氧化铝陶瓷基片上获得了高成核密度的金刚石薄膜.实验表明,金刚石成核密度随系统压强减小而提高.在此基础上,提出一种MPCVD系统中金刚石成核的动力学模型,并指出对应于最高成核密度有一临界压强存在.

关键词: 金刚石薄膜, MPCVD, 氧化铝陶瓷, 系统压强, 成核

Abstract: Under lower gas pressure, the high-density nucleation of diamond films on alumina was successfully achieved by microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition (MPCVD). It was found that the nucleation density increased with the decreases of gas pressure. Based on these results, a kinetic model for diamond nucleation in MPCVD system was proposed. The critical gas pressure corresponding to the highest nucleation density was also discussed.

Key words: diamond film, MPCVD, alumina substrates, gas pressure, nucleation

中图分类号:

TN304

王志明,夏义本,杨莹,方志军,王林军,居建华,范轶敏,张伟丽. 金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核[J]. 无机材料学报.

WANG Zhi-Ming,XIA Yi-Ben,YANG Ying,FANG Zhi-Jun,WANG Lin-Jun,JU Jian-Hua,FAN Yi-Min,ZHANG Wei-Li. Lower Gas Pressure Enhanced Diamond Nucleation on Alumina by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition[J]. Journal of Inorganic Materials.

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