无机材料学报 ›› 2011, Vol. 26 ›› Issue (2): 113-118.DOI: 10.3724/SP.J.1077.2011.00113 CSTR: 32189.14.SP.J.1077.2011.00113
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周 震1, 赵 夔1, 王耀明2, 黄富强2
ZHOU Zhen1, ZHAO Kui1, WANG Yao-Ming2, HUANG Fu-Qiang2
摘要: 在GaAs的(110)、(001)和(111)A、(111)B等极性晶面上, 通过铜铟共溅-硒蒸镀的方法, 分布外延生长出(220/204)、(001)和(112)结晶取向的单晶CIS薄膜. 系统考察了CIS薄膜外延生长的结晶取向和表面微结构, 发现了这些CIS外延薄膜均需表面重构化而形成比表面能低的CIS(112)晶面, 结合晶体结构研究了各种晶面和比表面能的相关性. 通过各种衬底下不同结晶取向的CIS薄膜的太阳能电池组装, 发现当CIS薄膜生长具有(220/204)结晶取向时电池器件性能最好、效率最高, 说明可通过控制CIS薄膜的沉积条件和选用合适取向的衬底, 增加吸收层(220/204)的结晶取向, 从而显著提高CIS薄膜太阳电池的光电性能.
中图分类号: