碳纳米管和镓掺杂碳纳米管场发射性能研究

doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00181

无机材料学报

碳纳米管和镓掺杂碳纳米管场发射性能研究

柳堃，晁明举, 李华洋, 梁二军, 袁斌

郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室, 郑州 450052

收稿日期:2006-03-06 修回日期:2006-07-10 出版日期:2007-01-20 网络出版日期:2007-01-20

Comparison of Field Emission in Carbon Nanotubes and Gallium-doped Carbon Nanotubes

LIU Kun, CHAO Ming-Ju, LI Hua-Yang, LIANG Er-Jun, YUAN Bin

Department of Physics & Key Lab of Material Physics of Ministry of Education, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, China

Received:2006-03-06 Revised:2006-07-10 Published:2007-01-20 Online:2007-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用催化热解方法分别制备出碳纳米管和镓掺杂碳纳米管, 并利用丝网印刷工艺将其制备成纳米管薄膜. 对此薄膜进行低场致电子发射测试表明, 碳纳米管和镓掺杂纳米管开启电场分别为2.22和1.0V/μm, 当外加电场为2.4V/μm, 碳纳米管发射电流密度为400μA/cm², 镓掺杂纳米管发射电流密度为4000μA/cm². 可见镓掺杂碳纳米管的场发射性能优于同样条件下未掺杂时的碳纳米管. 对镓掺杂纳米管场发射机理进行了探讨.

关键词: 碳纳米管, 镓掺杂碳纳米管, 场发射

Abstract: Carbon nanotubes and Ga-doped carbon nanotubes were synthesized by
pyrolysis and then purified. Thin films of the purified samples were fabricated
by a screen-printing method. Field emission properties of these films were
studied. It was shown that the turn-on field of carbon nanotubes and Ga-doped carbon nanotubes was 2.22V/μm and 1.0V/μm, and the current densities were 400μA/cm² and 4000μA/cm² for carbon nanotubes and Ga-doped carbon nanotubes at applied fields 2.4V/μm. The electron field emission properties of the gallium-doped nanotubes were much better than those of carbon nanotubes. Mechanisms of field emission of gallium-doped nanotubes were explained.

Key words: carbon nanotubes, Ga-doped carbon nanotubes, field emission

中图分类号:

TB383
O643

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碳纳米管和镓掺杂碳纳米管场发射性能研究

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