纳米粉预处理的CVD金刚石薄膜成核与生长研究

无机材料学报

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纳米粉预处理的CVD金刚石薄膜成核与生长研究

邵乐喜^a; 谢二庆^a; 贺德衍^a; 陈光华^ab; 徐康^c

^a兰州大学物理系;兰州 730000; ^b北京工业大学应用物理系北京 100022; ^c中国科学院化学物理研究所, 兰州 730000

收稿日期:1998-01-20 修回日期:1998-02-27 出版日期:1998-12-20 网络出版日期:1998-12-20

Nucleation and Growth of CVD Diamond Films on Smooth SiSubstrate Pretreated by Nanodiamond Powders

SHAO Le-Xi^a; XIE Er-Qing^a; HE De-Yan^a; CHEN Guang-Hua^ab; XU Kang^c

^aDepartment of Physics; Langzhou University Lanzhou 730000 China; ^bDepartment of Applied Physics; Beijing Polytechnic University Beijing 100022 China; ^cInstitute of Chemistry and Physics; Chinese Academy of Sciences Lanzhou 730000 China

Received:1998-01-20 Revised:1998-02-27 Published:1998-12-20 Online:1998-12-20

摘要/Abstract

摘要： 研究了纳米金刚石粉预处理的光滑硅衬底上CVD金刚石薄膜的成核与生长．通过与研磨处理样品相比较，纳米金刚石的预处理极大地提高了成核密度（可达10⁹／cm²）、成核速度与成膜质量，并能方便地进行成核密度的控制，是一种经济实用、简单有效的预处理方法．

关键词: CVD金刚石, 成核, 衬底预处理, 纳米金刚石粉

Abstract: Ultradispersed nanodiamond powder synthesized by explosive detonation was used for the pretreatment of mirror Si substrate for nucleation and growth of diamond by microwave plasma-CVD. Compared with the scratching pretreatment,
it is found that the pretreatment method by coating substrate with the slurry loading nanodiamond powder not only enhances both of density (up to 10⁹ cm^-2
and nucleation rate, improving the quality of grown-up film greatly, but also controls nucleation easily. In addition, this pretreatment is also very
cost-effective, non-damaging, and reproducible as well.

Key words: CVD diamond，nucleation，pretreatment of substrate，nanodiamond powder

中图分类号:

O484

邵乐喜,谢二庆,贺德衍,陈光华,徐康. 纳米粉预处理的CVD金刚石薄膜成核与生长研究[J]. 无机材料学报.

SHAO Le-Xi,XIE Er-Qing,HE De-Yan,CHEN Guang-Hua,XU Kang. Nucleation and Growth of CVD Diamond Films on Smooth SiSubstrate Pretreated by Nanodiamond Powders[J]. Journal of Inorganic Materials.

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纳米粉预处理的CVD金刚石薄膜成核与生长研究

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